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    等離子電暈表面設備

    表面處理設備

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    VacuLAB-X小 型實驗室用真空等離子設備

    產品特征:

    ·使用簡便
    ·處理速度快
    ·真空度
    ·集成的放電發生器
    ·過程控制
    ·等離子過程可視化
    ·測試效果通用




    供實驗室測試和小批量生產使用的臺式真空等離子設備
    Tantec的VacuLAB是VacuTEC設備的精簡版。VacuLAB可用于小批量的測試,并且用戶可控制所有參數。采用VacuLAB測試的結果也可應用到VacuTEC設備中。


    VacuLAB是根據VacuTEC設備而專門設計的小型設備,具有體積小,方便攜帶等特點,既可以在實驗室即時完成各種樣品的效果測試,也可以用于小批量的生產。


    VacuLAB集成proface面板,更加有利于控制和監控參數變化的整個過程。
    VacuLAB采用標準的陶瓷絕緣電極,保證了測試效果同樣適用于VacuTEC設備。
    VacuLAB的倉門是透明的,因此用戶可觀察到等離子放電處理產品的全過程。


    特點:
    ·使用簡便 在實驗室中可對各種部件進行測試,連接電源和裝置即可。
    ·處理速度快 材質不同,處理所需時間不同,一般為10-180s。
    ·真空度 處理過程中處理倉中的真空度為1-4mbar。
    ·集成的放電發生器 300w的放電發生器與設備集成為一體,可通過觸摸屏上進行控制。
    ·過程控制 通過內置的proface面板和PLC裝置,可控制和監控整個處理過程。
    ·等離子過程可視化 處理倉門是透明材質制作,可以觀察到等離子處理的過程。
    ·測試效果通用 測試的效果也適用于VacuTEC。




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